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上光加工的故障分析及處理

福州眾印網(wǎng)    2007/5/23 11:17:00   來源:福州眾印網(wǎng)


  一、膜面出現(xiàn)條痕或起皺 

  其原因可能中:上光涂料的粘度值高,涂料來不及流平,易出現(xiàn)條痕?筛鶕(jù)印刷品的不同適性,選用流平性、潤濕性好的上光涂料;或加入適量稀釋劑,降低涂料的粘度值。如為涂布量過大,可以通過調(diào)整使涂布量降低;有時是上光涂料對印刷品表面墨層潤濕性不好,影響干燥成膜的平滑性,或涂料的流平性差,工藝條件與涂料適性不匹配,可能用其它種類的上光涂料或改變工藝條件,使其與涂料性能相匹配。 

  二、印刷品互相粘連 

  原因是:上光涂料中溶劑的揮發(fā)性好,涂料的干燥性能不良,可考慮改用揮發(fā)速率高的溶劑或更換上光涂料種類;也可能是涂布膜層太厚,涂層內(nèi)部的溶劑未完全揮發(fā),殘留量高,減薄膜層厚度;或者是上光涂布或壓光中工作溫度低,干燥時間短而使涂層干燥不良,可提高上光涂布和壓光中的工作溫度,降低機(jī)速,使涂層徹底干燥。 

  三、成膜膜層光澤度差 

  如果是上涂涂料的質(zhì)量問題,則應(yīng)考慮按工藝及經(jīng)濟(jì)要求改用質(zhì)量較好的上光涂料;若是涂層太薄,涂布量不足或涂料濃度小,在粗糙度高、吸收性強(qiáng)的印刷品表面不易填平補(bǔ)齊,則應(yīng)加大涂布量,提高涂料濃度,或在加工前先上一層上光底膠,再進(jìn)行上光涂布;也可能是上光涂布干燥和壓光時的溫度偏低壓光壓力小,則操作中應(yīng)調(diào)整工藝參數(shù),提高溫度,加大壓力;還要估計到是設(shè)備本身原因,如為壓光鋼帶磨損,光澤平滑度下降,這就要修理改善壓光鋼帶表面狀況。 

  四、壓光后印刷品空白部分呈淺色部分,而淺色部位變色 

  原因可能是:上光涂料溶劑對油墨層有一定溶解作用,這要更換涂料種類或改變?nèi)軇┏煞;若是油墨干燥不良,墨層耐溶劑性能不好,就要改善油墨干燥情況,等油墨干燥后再上光涂布,減少上光少料中對油墨有溶解作用的溶劑用量;涂料層干燥不徹底,膜層內(nèi)溶劑殘留量高,則要提高上光涂布時的干燥溫度或或降低機(jī)速,延長干燥時間,降低涂層內(nèi)部溶劑殘留量。 

  五、涂層不均勻、有氣泡、麻點(diǎn)等 

  原因是:上光涂料表面張力值大,對印刷品表面墨層的潤濕作用不好,應(yīng)降低其表面張力值、改善涂料對油墨層的潤濕性能;涂料中的溶劑揮發(fā)不良,涂層內(nèi)溶劑殘留量高,可改用揮發(fā)速率高的溶劑或使涂層徹底干燥后再壓光;也可能是上光涂布中機(jī)速過快,干燥溫度低,使涂層干燥不徹底,溶劑揮發(fā)不完全,就應(yīng)調(diào)整上光涂布的工藝條件;印刷品表面的油墨層也會產(chǎn)生晶化現(xiàn)象,這要采取有效措施,如除去墨層晶化面的油質(zhì)或進(jìn)行打毛處理,改善涂料對墨層的潤濕作用,以減弱或消除墨層晶化對上光涂布的不良影響。 

  六、膜面起泡 

  原因是:在壓光過程中,壓力過大,壓光鋼帶的溫度過高,使涂料膜層局部軟化,這需適當(dāng)降低壓光的壓力和溫度;也可能是上光涂料與壓光工藝條件木匹配,使印刷品表面的涂料層冷卻后,同上光帶的剝離力差,需改變工藝條件,使其與上光涂料相匹配,降低壓光機(jī)速,改善涂料層同上光帶之間的剝離力。 

  七、壓光中,印刷品與上光帶之間粘附不良 

  原因是:涂層太薄,應(yīng)增大涂布量;涂料的粘度太低,要提高涂料的粘度值;再就是壓光的壓力太小,壓光溫度不足,要提高壓光溫度,增加壓光壓力。

  八、印刷品壓光后,表面易折裂 

  原因是:溫度偏高,使印刷品在壓光中脫水過多,含水量降低,因而紙質(zhì)纖維變脆,應(yīng)降低壓光中的工作溫度,并采取有效措施,保持印刷品中一定的含水量;壓光中壓力過大,使印刷品的延伸性和可塑性降低,韌性變差,可減少壓光中的壓力;如為上光涂料的后加工適性不良,則應(yīng)重新選擇后加工適性較好的上光涂料;后加工工藝條件選擇不合適,可調(diào)整后加工工藝條件,使其與印刷品壓光后的適性相匹配。 

  九、壓光后兩側(cè)膜面亮度不一致 

  原因是:壓光中,上光帶兩側(cè)壓力不相等,或上光帶兩側(cè)磨損不一致,應(yīng)調(diào)整上光帶兩側(cè)的壓力使之相等,調(diào)整熱壓輥與傳輸輥的平行度,使上光帶兩側(cè)張緊一致,磨損均勻;也可能是上光涂料兩側(cè)厚薄不均勻,這就要調(diào)整上光涂布機(jī)構(gòu),檢查計量輥與涂布輥之間的平 行度和間隙,使兩側(cè)涂層厚度盡量一致。 


本文標(biāo)題:上光加工的故障分析及處理
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